6月5日，第十四届国际材料强度大会在西安古都新世界大酒店召开，会议由中国国家自然科学基金委员会、国家教育部、中国材料研究学会、我校、中国科学院沈阳金属研究所和西安市科技局等单位共同支持。这是亚洲地区第一次举办该系列国际材料强度大会。
    开幕式由本届会议组织委员会主席、我校金属强度国家重点实验室主任、材料科学与工程学院院长孙军教授主持，大会主席J-L. Martin教授致开幕词，我校副校长卢天健教授与沈阳材料国家重点实验室杨锐教授分别致欢迎词。来自英国牛津大学、伯明翰大学、美国橡树岭国家实验室、俄亥俄州立大学、德国马普界面所、法国国家物理与材料所、法国艾图德国家微结构实验室、丹麦瑞瑟国家实验室、美国空军研究实验室、瑞士典泼斯谢尔材料研究所、洛桑理工学院、印度理工学院和日本九州大学等国际著名研究机构的专家共300余人参加大会。

    开幕式后，剑桥大学卡文迪叙国家实验室前主任、英国皇家科学院院士L.M.Brown教授以“材料透射电镜：50年的历史和持续发展”为题，作了大会特邀报告。该报告讲述了50年前世界上第一张透射电子显微照片的诞生和近年来相关研究领域的发展。来自日本九州大学的Higashida教授作了题为“裂纹尖端位错及屏蔽效应对断裂韧性的影响分析”的主题报告。
    在为期5天的会议期间，金属中位错滑移临界切应力——派纳力的发现者、来自南非的Nabarro教授作题为“碳化钨塑性研究的实验方法”的特邀报告。来自法国艾图德国家微结构实验室、清华大学、瑞士典泼斯谢尔材料研究所、俄亥俄州立大学的专家们也将作主题报告。与会代表们将围绕材料的位错、强度和塑性、断裂和断裂模式、循环变形和疲劳、高温变形和蠕变以及界面强度与结合性能等议题展开研讨。
    国际材料强度大会是材料强度研究领域最权威的国际系列学术会议，始于1967年，每3年举办一次，会议主题始终围绕材料强度的前沿基础科学问题，是材料强度国际学术界的盛会，是来自世界各地的科学家展示最新成就和思想的平台，在国际材料学界影响巨大。